International Summer School on Nanofabrication and Electron Microscopy Characterization

• 9:30 - 10:45 h. Título: Opening words and Introduction to Nanofabrication Techniques
  José María De Teresa Nogueras (INMA - University of Zaragoza - CSIC)
• 10:45 - 11:15 h. Student's power-slide. 1 slide introducing your research project
  
• 11:15 - 11:45 h. Coffe break and poster session.
  
• 11:45 - 13:30 h. Título: E-beam lithography and cryo-etching for the definition of sharp edges in 2D-materials.
  Vito Clericò (University of Salamanca)
• 13:30 - 16:00 h. Lunch and free time
  
• 16:00 - 17:45 h. Título: Lithography applied to high-temperature superconductors.
  Anna Palau (ICMAB - CSIC)
• 17:45 - 18:15 h. Coffe break and poster session.
  
• 18:15 - 20:00 h. Título: Magic angle bilayer graphene: Superconductors, orbital magnets, correlated states and beyond.
  Dmitri K. Efetov (ICFO)

• 9:30 - 11:15 h. Título: Functional soft-nanoimprinted surfaces
  Isabel Rodríguez (IMDEA Nanociencia)
• 11:15 - 11:45 h. Coffe break and poster session.
  
• 11:45 - 13:30 h. Field effect transistor biosensors: Optimisation of the influence of size and geometry and fabrication methdos.
  César Pascual García (LIST)
• 13:30 - 16:00 h. Lunch and free time
  
• 16:00 - 17:45 h. Título: Helium ion imaging and patterning.
  Gregor Hlawacek (Helmholtz - Zentrum Dresden - Rossendorf)
• 17:45 - 18:15 h. Coffe break and poster session.
  
• 18:15 - 20:00 h. Título: Thermal scanning probe lithography.
  Edoardo Albisetti (Politecnico di Milano)

• 9:30 - 11:15 h. Título: 3D fabrication via two-photon lithography direct laser writing.
  Ryan Cecil Ng (ICN2)
• 11:15 - 11:45 h. Coffe break and poster session.
  
• 11:45 - 13:30 h. Microfabrication process of magnetic sensors based on magnetic tunnel junctions.
  Elvira Paz (International Iberian Nanotechnology Laboratory)

16-18 de Julio de 2018: Summer School in Basics and Applications of Nanolithography

• 9:00 - 11:00 h. Título: Opening words and Introduction to Nanofabrication Techniques
  Ponentes: Soraya Sangiao Barral (Universidad de Zaragoza, Zaragoza, España) y José María De Teresa Nogueras (Instituto de Ciencia de Materiales de Aragón - Universidad de Zaragoza - CSIC, Zaragoza, España)
• 11:30 - 13:30 h. Título: Practical examples and new developments in Electron Beam Lithography
  Ponente: David López (ISOM y CRESTEC, Madrid, España)
• 13:30 - 16:00 h. Lunch and free time
  
• 16:00 - 18:00 h. Título: Organic ice resists
  Ponente: Anpan Han (Technical University of Denmark (DTU), Copenhagen, Denmark)
• 18:00 - 20:00 h. Título: Optical metrology in Nanofabrication
  Ponente: Guy Whitworth (Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), Barcelona, España)

• 9:00 - 11:00 h. Título: Nanolithography with an Atomic Force Microscope
  Ponente: Ricardo García (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) - CSIC, Madrid, España)
• 11:30 - 13:30 h. Título: Nanodevices based on 2D materials
  Ponente: Luis Hueso (CIC-nanoGUNE, San Sebastián, España)
• 13:30 - 16:00 h. Lunch and free time
  
• 16:00 - 18:00 h. Título: Focused Ion Beam applied to Nano-superconductivity
  Ponente: Rosa Córdoba Castillo (Instituto de Ciencia de Materiales de Aragón - Universidad de Zaragoza - CSIC, Zaragoza, España)
• 18:00 - 20:00 h. Título: Nano-engineered (multi)functional surfaces
  Ponente: Isabel Rodríguez (IMDEA-Nanociencia, Madrid, España)

• 9:00 - 11:00 h. Título: Nanodevices combining several lithography techniques
  Ponente: Francesc Pérez-Murano (Instituto de Microelectrónica de Barcelona (IMB-CNM) - CSIC, Barcelona, España)
• 11:30 - 13:30 h. Título: Patterning of quantum materials
  Ponente: Toni Helm (Max Planck Institute, Dresden, Germany)
• 13:30 h. Test, lunch and end of the school
  

18-22 de Julio de 2016: International Summer School on Nanofabrication and Transmission Electron Microscopy.

• 9,00 h. Título: Overview of the main nanolithography techniques
  Ponente: Soraya Sangiao Barral (U. Zaragoza, Zaragoza, España)
• 10,45 h. Título: Electron Beam Lithography and its application in Spintronics
  Ponente: Fèlix Casanova Fernàndez (CIC nanoGUNE, San Sebastián, España)
• 12,30 h. Título: Fabrication of nanodevices
  Ponente: Francesc Pérez-Murano (Instituto de Microelectrónica de Barcelona - CSIC, Barcelona, España)

• 9,00 h. Título: Focused Electron Beam Induced Deposition technique: basics and applications
  Ponente: Harald Plank (Graz University of Technology, Graz, Austria)
• 10,45 h. Título: AFM - based nanolithography techniques
  Ponente: Ricardo García García (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid - CSIC, Madrid, España)
• 12,30 h. Título: Workshop on practical examples in nanolithography
  Ponente: José María De Teresa Nogueras (Instituto de Ciencia de Materiales de Aragón - Universidad de Zaragoza - CSIC, Zaragoza, España)

• 9,00 h. Título: Principles of Transmission Electron Microscopy
  Ponente: César Magén (ARAID - Instituto de Nanociencia de Aragón, Zaragoza, España)
• 10,00 h. Título: Introduction to Diffraction and use of spatially resolved Precession Electron Diffraction data to analyze structural deformation in individual nanostructures
  Ponente: Daniel Mario Ugarte (Univ. Estadual Campinas, Sao Paulo, Brasil)
• 12,00 h. Título: HRTEM
  Ponente: María Luisa Ruiz González (Universidad Complutense de Madrid, Madrid, España)
• 13,00 h. Título: STEM
  Ponente: César Magén (ARAID - Instituto de Nanociencia de Aragón, Zaragoza, España)
• 16,00 h. Título: Nanofabrication using microfluidics
  Ponente: Víctor Sebastián Cabeza (Universidad de Zaragoza, Zaragoza, España)
• 17,00 h. Título: Nanowires for fotocatalytic conversion
  Ponente: Lun Yeung King (Hong Kong University of Science and Technology, Clear Water Bay, Hong Kong)
• 18,00 h. Título: Iron based organometallic nanoparticles: physical and catalytic properties
  Ponente: Bruno Chaudret (INSA - CNRS - UPS, Toulouse, Francia)
• 19,00 h. Título: Functional nanostructures
  Ponente: Manuel Ricardo Ibarra García (Instituto de Nanociencia de Aragón - Universidad de Zaragoza, Zaragoza, España)
• 20,00 h. Título: Round Table: Nanofabrication and nanocharacterization
  Ponentes: Victor Sebastián, Lung Yeung King, Bruno Chaudret y Ricardo Ibarra.

• 9,00 h. Título: EELS - EDX
  Ponente: María Varela del Arco (Universidad Complutense de Madrid, Madrid, España)
• 10,00 h. Título: Characterization of Advanced Materials using atomic resolution EELS
  Ponente: Almudena Torres Pardo (Universidad Complutense de Madrid, Madrid, España)
• 11,00 h. Título: STEM - EELS in oxides
  Ponente: María Varela del Arco (Universidad Complutense de Madrid, Madrid, España)
• 12,00 h. Título: Non-planar nanostructures under the electron beam: down to single atom detection
  Ponente: Jordi Arbiol (Institut Català de Nanociencia i Nanotecnologia - CSIC, Barcelona, España)
• 13,00 h. Título: Workshop (I) on practical examples in TEM
  Ponente: César Magén (ARAID - Instituto de Nanociencia de Aragón, Zaragoza, España)

• 9,00 h. Título: Tomography
  Ponente: Raúl Arenal (ARAID - Instituto de Nanociencia de Aragón, Zaragoza, España)
• 10,00 h. Título: Holography
  Ponente: Etienne Snoeck(CEMES - CNRS, Toulouse, Francia)
• 11,00 h. Título: Structural and local spectroscopic TEM studies on (Bio-)Nanomaterials
  Ponente: Raúl Arenal (ARAID - Instituto de Nanociencia de Aragón, Zaragoza, España)
• 12,00 h. Título: Workshop (II) on practical examples in TEM
  Ponente: Raúl Arenal (ARAID - Instituto de Nanociencia de Aragón, Zaragoza, España)
• 13,00 h. Título: Exam on Nanofabrication and TEM
  
• 14,00 h. Título: Closure session
  Ponentes: Pilar Cea y José María De Teresa

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Jaca (Huesca), del 15 al 17 de julio de 2013.

• 15 de Julio de 2013

• 9,00 h. Título: Nanotechnology today: where we are and challenges
  Ponente: Ricardo Ibarra (U. Zaragoza, Spain)
• 10,30 h. Título: Clean-room processing
  Ponente: Pierre Calmon (LAAS, France)
• 12,30 h. Título: Nanofabrication processes
  Ponente: Xavier Borrisé (CNM, Spain)
• 16,30 h. Título: Large-area ordered nanostructures by directed self-assembly
  Ponente: Claudia Simao (ICN, Spain)
• 18,00 h. Título: Electron Beam Lithography and their applications
  Ponente: José Luis Prieto(ISOM-UPM, Spain)

• 16 de Julio de 2013

• 9,00 h. Título: Nanolithography using Atomic Force Microscopy
  Ponente: Ricardo García (ICMM, Spain)
• 10,30 h. Título: Advanced top-down lithography processing
  Ponente: Laurent Pain (CEA-LETI, France)
• 12,30 h. Título: Nanowires: synthesis and applications
  Ponente: Joao Ventura (U. Porto, Portugal)
• 16,30 h. Título: Magnetic Storage: past and future
  Ponente: Andreas Berger (Nanogune, Spain)
• 18,00 h. Taller: “How to create a spin-off company: a few examples. Round table.”
  Coordinadores:José María De Teresa (ICMA, Spain) and Francesc Pérez-Murano (CNM, Spain)

• 17 de Julio de 2013

• 9,00 h. Título: Nanobiosensors based on optical platforms
  Ponente: Borja Sepúlveda (CIN2, Spain)
• 10,30 h. Título: Magnetic biosensors
  Ponente: Paulo Freitas (INESC and INL, Portugal)
• 12,30 h. Título: Novel developments in the research of thermoelectric materials
  Ponente: Francisco Rivadulla (U. Santiago de Compostela, Spain)
• 16,30 h. Título: Nanofabrication approaches in superconductivity for energy applications
  Ponente: Anna Palau (ICMAB, Spain)
• 18,00 h. Taller “Use of nanofabrication techniques for real examples in Nanotechnology”
  Coordinadores:José María De Teresa (ICMA, Spain) and Francesc Pérez-Murano (CNM, Spain)

Jaca (Huesca), del 6 al 8 de julio de 2011.

• Contenidos del curso:
  
  Miércoles, 6 de Julio
  08:45 h. Presentación del curso (1) (2)
  09:00 h. Litografía óptica. Etching (3) [PDF] [Info resinas]
  10:30 h. Otras litografías con fotones (laser, interferometría, DUV, rayos X,…) (4) [PDF]
  12:30 h. Litografía electrónica (5) [PDF]
  16:30 h. Aplicaciones de litografía en estudios de superconductividad (6) [PDF]
  18:00 h. Aplicaciones de litografía en estudios de nanomagnetismo (4) [PDF]
  
  Jueves, 7 de Julio
  09:00 h. Litografía de haz de iones focalizado (7) [PDF]
  10:30 h. Aplicaciones de litografía en sensores y biosensores (3) [PDF(1)] [PDF(2)]
  12:30 h. Aplicaciones de litografía en dispositivos magnetorresistivos y nanohilos magnéticos (5)[PDF]
  16:30 h. Aplicaciones de litografía en estudios de electrónica molecular (8) [PDF]
  18:00 h. Litografía con microscopios de sonda local (I) (9) [PDF]
  
  Viernes, 8 de Julio
  09:00 h. Litografía con microscopios de sonda local (II) (9) [PDF(1)] [PDF(2)]
  10:30 h. Nanodepósitos inducidos por haz de electrones e iones focalizados. (7) [PDF]
  12:30 h. Técnicas de nanoimpresión (10) [PDF]
  16:30 h. Aplicaciones de la litografía por nanoimpresión (I) (10) [PDF]]
  18:00 h. Aplicaciones de la litografía por nanoimpresión (II) (11) [PDF]
  
  
• Ponentes:
  
  1. José María de Teresa Nogueras (ICMA (Fac. Ciencias))
  2. Manuel Ricardo Ibarra García (Instituto de Nanociencia de Aragón. Universidad de Zaragoza.)
  3. Francesc Pérez-Murano (Instituto de Microelectrónica de Barcelona)
  4. José Ignacio Martín (Universidad de Oviedo)
  5. José Luis Prieto Martín (Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología, Universidad Politécnica de Madrid)
  6. José Luis Vicent López (Universidad Complutense de Madrid)
  7. Albert Romano Rodríguez (Universitat de Barcelona)
  8. Luis Eduardo Hueso Arroyo (CIC nanoGUNE )
  9. Ricardo García García (Instituto de Microelectrónica de Madrid)
  10. Nikos Kehagias (Instituto Catalan de Nanotecnologia)
  11. Santos Merino Álvarez (Fundación Tekniker-IK4)
  
• Directores:
  
  D. José María De Teresa Nogueras, Profesor de Investigación del CSIC y Dr. D. Manuel Ricardo Ibarra García, Catedrático de la Universidad de Zaragoza
• Interés académico y social del Curso:
  
  El curso tiene un gran interés académico para aquellos estudiantes que vayan a realizar una tesis doctoral o una investigación en el ámbito de la nanotecnología, pues van a obtener una visión general de las técnicas de nanolitografía, que son las que les van a permitir fabricar nanodispositivos reales. En el presente curso de verano, el estudiante podría tener una visión global, detallada e impartida por los expertos nacionales en esta temática. Además, el ambiente interdisciplinar que tiene el curso va a ser muy formativo para el alumno, quien podrá relacionarse con otros alumnos de otras disciplinas, aprendiendo otro lenguaje y otras técnicas. Desde un punto de vista social, el curso va a permitir de nuevo situar a la Universidad de Zaragoza en el foco de atención nacional de la Nanotecnología, reuniendo a los investigadores españoles más activos en este campo de trabajo. Los estudiantes de la Universidad de Zaragoza y de sus centros de investigación (tales como el INA y el ICMA) van a poder tener un contacto directo con estos investigadores y otros alumnos españoles del ámbito de la Nanotecnología.
• Objetivos del curso:
  
  Este curso tiene como primer objetivo que los estudiantes conozcan las técnicas disponibles en nanolitografía para la fabricación de nanodipositivos y puedan aplicarlas en su temática de trabajo. El segundo objetivo es fomentar una aproximación interdisciplinar a la resolución de los retos tecnológicos que supone realizar un nanodispositivo, especialmente en el caso de los biosensores. En tercer lugar, se pretende que el alumno pueda conocer de primera mano a los especialistas nacionales en el campo de los nanodispositivos así como a otros estudiantes de esta temática, fomentándose de este modo las futuras colaboraciones y las apuestas multidisciplinares en el campo de la Nanotecnología.
• Destinatarios:
  
  Estudiantes recién licenciados o en el último año de carrera de Físicas, Químicas, Ingenierías. Estudiantes de tesis doctoral y postdoctorales con temáticas relacionadas con la Nanotecnología. Investigadores del ámbito de la Nanotecnología. La formación exigible es alumnos de carreras científico-técnicas a partir del último año de carrera.