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Presentaciones

Curso de verano: Técnicas de nanofabricación para aplicaciones en Nanotecnología. 6,7 y 8 de julio de 2011.

  • Litografía óptica. Etching. Francesc Pérez-Murano (Instituto de Microelectrónica de Barcelona). pdf [Info resinas]
  • Otras litografías con fotones (laser, interferometría, DUV, rayos X,…). José Ignacio Martín (Universidad de Oviedo) pdf
  • Litografía electrónica José Luis Prieto Martín (Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología, Universidad Politécnica de Madrid). pdf
  • Aplicaciones de litografía en estudios de superconductividad. José Luis Vicent López (Universidad Complutense de Madrid). pdf
  • Aplicaciones de litografía en estudios de nanomagnetismo. José Ignacio Martín (Universidad de Oviedo). pdf
  • Litografía de haz de iones focalizado. Albert Romano Rodríguez (Universitat de Barcelona) pdf
  • Aplicaciones de litografía en sensores y biosensores. Francesc Pérez-Murano (Instituto de Microelectrónica de Barcelona) pdf pdf
  • Aplicaciones de litografía en dispositivos magnetorresistivos y nanohilos magnéticos José Luis Prieto Martín (Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología, Universidad Politécnica de Madrid) pdf
  • Aplicaciones de litografía en estudios de electrónica molecular Luis Eduardo Hueso Arroyo (CIC nanoGUNE) pdf
  • Litografía con microscopios de sonda local (I). Ricardo García García (Instituto de Microelectrónica de Madrid) pdf
  • Litografía con microscopios de sonda local (II). Ricardo García García (Instituto de Microelectrónica de Madrid) pdf pdf
  • Nanodepósitos inducidos por haz de electrones e iones focalizados. Albert Romano Rodríguez (Universitat de Barcelona) pdf
  • Técnicas de nanoimpresión. Nikos Kehagias (Instituto Catalan de Nanotecnologia) pdf
  • Aplicaciones de la litografía por nanoimpresión (I). Nikos Kehagias (Instituto Catalan de Nanotecnologia) pdf]
  • Aplicaciones de la litografía por nanoimpresión (II). Santos Merino Álvarez (Fundación Tekniker-IK4) pdf

Jornada de Estrategia de Nanolitografía en España (26 Mayo 2009)

  • Ponentes invitados
    • Thomas Swahn - Micro and Nano Fabrication Network (Sweden) pdf
    • Hugues Garnier - Technological Platform LAAS-CNRS (France) pdf
  • ICTS
    • Emilio Lora Tamayo - Centro Nacional de Microelectrónica (CNM) (Barcelona) pdf
    • Enrique Calleja -Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología (ISOM) (Madrid) pdf
  • MICINN
    • Francisco Herrada - Jefe de Área, Subdirección General de Planificación Infraestructuras Científicas y Tecnológicas del MICINN pdf
    • Pedro Serena - colaborador del área del MICINN pdf
  • Centros de Nanolitografía
    • José Ignacio Martín (Oviedo University, Asturias) pdf
    • José Rivas (INL, Braga) pdf
    • Ricardo García (IMM, CSIC, Madrid)
    • Albert Romano (IN2UB, Univ. Barcelona)
    • José María Pitarque (CICNanoGUNE, Basque Country)
    • Alvaro San Paulo Bausells (CNM, Barcelona)
    • Santos Merino (Tekniker, Basque Country) pdf
    • Ricardo Ibarra (INA, Univ. Zaragoza) pdf
    • Clivia Sotomayor (CIN2, ICN-CSIC, Barcelona) pdf


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